在2024年9月的一次访谈中，中科大副院长朱士尧关于光刻机制造的言论引发了广泛讨论和争议。他强调，中国并非无法生产所有类型的光刻机，而是特别指出极紫外（EUV）光刻机的制造难度。朱士尧认为，这种设备的制造需要全球供应链的协同，没有任何国家能够独立完成。

极紫外光刻机的内部结构极为复杂，包括超过十万个零件，且需要来自不同国家的五千多家供应商的配合。尽管荷兰的阿斯麦是唯一一家能生产商用EUV光刻机的公司，但其设备内部的光源来自美国，镜头来自德国，材料则由日本提供，任何环节的缺失都将导致设备无法正常运作。

美国在90年代曾尝试独立研发EUV光刻机，虽然投入巨大并联合多个顶尖实验室，但最终却未能取得成功。这表明，即便是技术先进的国家也确实面临诸多挑战。 尊龙凯时

朱士尧在后续的发言中澄清，他并不是在泼冷水，而是在提醒行业应认清现实，不应幻想闭门造车的可能性。访谈引发的讨论使得业界分成了两派，一方面是呼吁理性看待技术差距，另一方面则呼吁对半导体研发的持续投资。

光刻机是实现芯片制造的重要设备，极紫外光刻机使用的13.5纳米波长光线制造条件非常苛刻。此外，阿斯麦在极紫外光刻机市场的份额高达100%，其销售额和利润也相当可观。

国内光刻产业分为成熟制程的深紫外（DUV）光刻机和未成熟的极紫外（EUV）光刻机两条道路。已有企业在DUV机型上取得了成效，而EUV光刻机则在技术上存在多重难关，包括光学镜头、光源及整机集成软件的核心技术。 尊龙凯时

受到国际制裁的影响，中国的高端设备采购受到限制，这同时激励了国内的自主研发进程。未来三年，国产光刻机的发展路径仍需多方努力，尤其在光学系统等核心领域。虽然部分科研团队已有EUV原型机的进展，但距离实现市场化仍面临诸多挑战和不确定性。